Ogniwa z wyrzuconych plastrów
31 października 2007, 11:27IBM opracował sposób na wykorzystanie wadliwych plastrów krzemowych w roli ogniw słonecznych. Każdego dnia w fabrykach produkujących układy scalone do kosza wędruje wiele plastrów, na których pojawiły się błędy.
Ogniwo na cukier dla sparaliżowanych
14 czerwca 2012, 10:02Zespół z MIT-u stworzył ogniwo paliwowe na glukozę. Współdzielące źródło zasilania z neuronami urządzenie może zostać wykorzystane w mózgowych implantach, które pozwoliłyby sparaliżowanym pacjentom na nowo poruszać kończynami.
Pierwszy układ scalony dzięki EUV
28 lutego 2008, 12:17AMD i IBM poinformowały o wyprodukowaniu pierwszego układu scalonego, który powstał przy użyciu litografii w dalekim ultrafiolecie (extreme ultra-violet – EUV). Technologia ta będzie wykorzystywana za około 8 lat do produkcji układów w procesie technologicznym 22 nanometrów.
450 milimetrów później niż zapowiadano
6 września 2012, 10:01TSMC opóźnia plany produkcji układów scalonych z wykorzystaniem 450-milimetrowych plastrów krzemowych. Jeszcze na początku ubiegłego roku koncern zapowiadał, że w latach 2013-2014 uruchomi pilotażową linię z 450-milimetrowymi plastrami, na której będzie wykorzystywana technologia 20 nanometrów
Większe plastry już za 4 lata
6 maja 2008, 12:27Intel, Samsung i TSMC nawiązały współpracę, której celem jest rozpoczęcie w 2012 roku produkcji układów scalonych z wykorzystaniem 450-milimetrowych plastrów krzemowych. Przejście na większe plastry pozwala obniżyć koszty produkcji i zaoferować klientom bardziej atrakcyjne ceny.
Połowa producentów półprzewodników zniknie z rynku?
10 grudnia 2012, 14:50Odchodzący prezes Intela Paul Otellini przewiduje spore zmiany na rynku producentów układów scalonych. Jego zdaniem, nieuniknione w przyszłości przejście na proces produkcyjny wykorzystujący 450-miliometrowe plastry krzemowe będzie wiązał się ze zniknięciem połowy obecnych producentów
MIT zapowiada 12-nanometrową litografię
23 lipca 2008, 11:11Niedawno informowaliśmy, że naukowcy z MIT przygotowali narzędzia (w tym tzw. nanolinijkę), dzięki którym możliwe będzie wykorzystanie technik litograficznych do produkcji układów scalonych w procesie 25 nanometrów. Mark Schattenburg, dyrektor Space Nanotechnology Laboratory w MIT, mówi: ... sądzimy, że używając obecnie dostępnej techniki jesteśmy w stanie zwiększyć rozdzielczość co najmniej dwukrotnie.
Dwa miliardy na 450 milimetrów
25 stycznia 2013, 13:34Intel ma zamiar wydać w bieżącym roku 2 miliardy dolarów na fabrykę wykorzystującą 450-milimetrowe plastry krzemowe. Wydatki inwestycyjne na naszą zasadniczą działalność będą generalnie takie jak w 2012 roku. Dodatkowo wydamy 2 miliardy USD na rozpoczęcie budowy naszej pierwszej fabryki dla 450-milimetrowych plastrów - oświadczyła prezes firmy ds. finansowych Stacy Smith
Kiedy 450-milimetrowe plastry?
13 października 2008, 13:40Jak donosi EE Times, fabryki układów scalonych korzystające z 450-milimetrowych plastrów krzemowych, rzeczywiście mogą powstać, jednak nie tak szybko, jakby sobie niektórzy życzyli.
ASML zapowiada kolejną generację urządzeń
22 kwietnia 2013, 11:58Holenderska firma ASML, największy na świecie producent sprzętu dla przemysłu półprzewodnikowego, zapowiedział, że do 2015 roku dostarczy prototypowe urządzenia służące do pracy z 450-milimetrowymi plastrami krzemowymi w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i litografii zanurzeniowej.. Firma ogłosiła też, że jej partnerzy - Intel, Samsung i TSMC - rozpoczną w 2018 roku masową produkcję za pomocą tego typu urządzeń.
« poprzednia strona następna strona » 1 2 3 4 5 6 7 8 9 …
